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高性能磁気光学記憶および光変調膜用テルビウムスパッタリングターゲット

高性能磁気光学記憶および光変調膜用テルビウムスパッタリングターゲット

高性能磁気光学記憶スパッタリングターゲット

光変調膜スパッタリングターゲット

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製品詳細
ハイライト:

高性能磁気光学記憶スパッタリングターゲット

,

光変調膜スパッタリングターゲット

支払及び船積みの言葉
最小注文数量
500g
パッケージの詳細
カスタムパッケージ
受渡し時間
45-60仕事日
支払条件
T/T
供給の能力
5000kg
製品の説明

テルビウムスパッタリングターゲットは、磁性材料、薄膜コンデンサ、光学コーティング、新エネルギー分野で広く使用されている高純度希土類機能材料です。本製品は、高純度テルビウム金属を精密溶解、成形、加工して作られています。優れたスパッタリング性能、膜均一性、構造的安定性を特徴とし、様々な物理蒸着プロセスに適しています。

 

適用分野

1. 磁性材料:巨大磁気抵抗材料、光磁気記録、スピントロニクスデバイスの機能性薄膜に使用。

2. 薄膜コンデンサ:高周波、高安定性薄膜コンデンサの誘電体層の作製に適用。

3. 光学薄膜:光学フィルター、レーザーデバイス、特殊光学コーティングに使用。

4. 太陽電池:光吸収層および界面機能層に使用し、太陽光発電デバイスの効率を向上。

5. 磁気記録およびディスプレイ:高密度磁気記録媒体およびディスプレイパネルの機能性薄膜に適用。

6. 研究および特殊デバイス:磁歪、磁気冷凍、特殊センサーの薄膜開発に使用。

 

理論的特性

属性

値/説明

純度

3N-4N (99.9-99.99%)

形状

長方形ターゲット、円形ターゲット、カスタムメイド

サイズ

2インチ、8インチ、12インチ、カスタムメイド

 

健康と安全に関する情報

項目

説明

接触保護

作業中は保護手袋とゴーグルを着用し、皮膚や目との接触を避けてください。

吸入リスク

粉塵は呼吸器を刺激する可能性があります。換気の良い環境で取り扱うか、防塵マスクを着用することをお勧めします。

保管条件

酸化や湿気を避けるため、乾燥した密閉容器に不活性ガス(アルゴンなど)で保護して保管してください。

緊急対応

目や皮膚に触れた場合は、直ちに水で洗い流し、医師の診察を受けてください。粉塵を吸入した場合は、換気の良い場所に移動してください。

環境への影響

廃棄されたターゲットは、不適切な廃棄を避けるため、金属廃棄物リサイクル規制に従って処理する必要があります。

 

梱包仕様

梱包:真空シール、不活性ガス保護、耐衝撃構造など、お客様の要件に応じて特別な梱包ソリューションを提供できます。

 

テルビウムスパッタリングターゲットについて

テルビウムスパッタリングターゲットは、そのユニークな磁気光学特性と電気的特性により、ハイテク機能性薄膜分野において重要な地位を占めています。そこから作られた薄膜は、磁気記録、光学変調、新エネルギー変換において優れた性能を発揮し、現代のエレクトロニクス、情報、エネルギーデバイスに不可欠なキーマテリアルとなっています。当社は、テルビウムスパッタリングターゲットの様々な仕様と純度グレードを提供し、研究革新と産業アップグレードのニーズに対応するために、オンデマンドのカスタマイズをサポートしています。

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