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漏れのない半導体メモリーチップ製造のための高電圧ランタンスプッターターゲット

漏れのない半導体メモリーチップ製造のための高電圧ランタンスプッターターゲット

半導体メモリチップ製造 スプッティングターゲット

高電解性スプッティング標的

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製品詳細
ハイライト:

半導体メモリチップ製造 スプッティングターゲット

,

高電解性スプッティング標的

支払及び船積みの言葉
最小注文数量
500g
パッケージの詳細
カスタムパッケージ
受渡し時間
45-60仕事日
支払条件
T/T
供給の能力
5000kg
製品の説明

ランタンウム噴射標的は,半導体,光学コーティング,研究分野で使用されている高純度機能材料です.精密加工により高純度ランタン金属から作られています薄膜の均一性,密度,スプッティング安定性が優れている.磁気スプッティングやイオンビームスプッティングなどの様々なコーティングプロセスに適しています.

 

応用分野

1半導体メモリーチップ: 記憶漏洩の問題を解決し,デバイスのパフォーマンスを向上させるために高介電常量ランタン酸化物フィルムを準備するために使用されます.高純度ランタン標的は,高い介電常数 (24-27) とSi基板との大きなインターフェースバリアを持つランタン酸化フィルムを生産するメモリチップの漏れを効果的に解決します

2光学コーティング:赤外線光学部品,反射防止コーティング,特殊ガラスコーティングに使用される.

3研究実験: 新しい材料の研究,薄膜物理学研究,表面工学に使用される.

4電子部品:薄膜抵抗,コンデンサ,センサーの準備に使用される.

 

理論的特性

属性

価値/説明

純度

3N-4N (99.9~99.99%)

形状

直角型ターゲット,円形ターゲット,カスタム製

サイズ

2インチ 8インチ 12インチ オーダーメイド

 

健康と安全に関する情報

ポイント

記述

接触保護

皮膚や目との接触を避けるため,操作中に保護手袋と眼鏡を身に着けます.

吸入によるリスク

粉塵は呼吸器系を刺激する可能性があります.換気環境で操作するか,粉塵マスクを着用することをお勧めします.

保存条件

酸化や湿度を防ぐため,無活性ガス (例えばアルゴン) で保護された乾燥した密閉容器に保管する.

緊急対応

目 や 皮膚 に 接触 する 場合,すぐに 水 で 洗い流し,医師 の 処置 を 求め ます.塵 を 吸う と し て は,よく 換気 する 場所 に 移動 し て ください.

環境への影響

廃棄されたゴールは,不適切な廃棄を避けるために,金属廃棄物リサイクル規制に従って処理されるべきです.

 

パッケージの仕様

オーダーメイドパッケージング: お客様の要求に応じて特別なパッケージングソリューションが提供できます.

 

ランタン・スプッティング・ターゲットについて

半導体メモリチップ分野では,特に,高級薄膜の準備のための重要な原材料である.その準備されたランタン酸化物フィルム,高い電解常数と優れたインターフェース特性電子機器の漏れを解決する重要な材料になりました 私たちは高純度,多サイズ対象製品と研究と産業生産の多様なニーズを満たすためにカスタム加工をサポート.

 

 

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