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Target di sputtering allo ittrio per stabilità alle alte temperature e film di rivestimento superiori resistenti all'usura

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Obiettivo di sputtering di samario per film metallici ad alta riflettività e rivestimenti conduttivi trasparenti

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Target di sputtering in lega di alluminio e neodimio per rivestimenti di elettrodi di alta qualità per display e touchscreen

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Target di sputtering in lega di terre rare personalizzata con composizione su misura per il tuo processo di film sottile

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Target di sputtering in lega HoCu per applicazioni aerospaziali ad altissima temperatura e refrigerazione magnetica

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Obiettivo di sputtering di scandio ad alte prestazioni per filtri RF 5G e dispositivi elettro-ottici avanzati

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Obiettivo di sputtering di terbio per film di memorizzazione magneto-ottica ad alte prestazioni e modulatori ottici

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Obiettivo di sputtering per filtri acustici 5G con prestazioni piezoelettriche migliorate

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Obiettivo di sputtering di itterbio come strato catodico OLED avanzato per schermi più luminosi e duraturi

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L'alluminio-neodimio Master alloy migliora la resistenza al tempo e le proprietà magnetiche

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