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wear resistant sputtering target (10)  fabricant en ligne

Cible de pulvérisation d'yttrium pour la stabilité à haute température et les films de revêtement résistants à l'usure supérieurs

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Cible de pulvérisation de samarium pour films métalliques à haute réflectivité et revêtements conducteurs transparents

Détails d'emballage: Emballage personnalisé

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Cible de pulvérisation en alliage de néodyme d'aluminium pour un revêtement d'électrodes d'affichage et d'écran tactile de haute qualité

Détails d'emballage: Emballage personnalisé

Délai de livraison: 45-60 jours ouvrables

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Cible de pulvérisation cathodique en alliage de terres rares sur mesure pour votre procédé de couches minces

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Cible de pulvérisation cathodique en alliage HoCu pour applications aérospatiales à températures extrêmes et réfrigération magnétique

Détails d'emballage: Emballage personnalisé

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Cible de pulvérisation de scandium haute performance pour les filtres RF 5G et les appareils électro-optiques avancés

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Cible de pulvérisation de terbium pour le stockage magnéto-optique à haute performance et les films de modulateur optique

Détails d'emballage: Emballage personnalisé

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Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de scandium pour les filtres acoustiques 5G avec des performances piézoélectriques améliorées

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Cible de pulvérisation d' ytterbium comme couche de cathode OLED avancée pour des écrans plus lumineux et plus durables

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L'alliage maître aluminium-néodyme améliore la résistance à la température et les propriétés magnétiques

Détails d'emballage: Emballage en fût de fer scellé de 50 kg

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