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high reflectivity sputtering target (5)  fabricant en ligne

Cible de pulvérisation de samarium pour films métalliques à haute réflectivité et revêtements conducteurs transparents

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Cible de pulvérisation pour revêtements conducteurs transparents

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Cible de pulvérisation à haute réflectivité

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Cible de pulvérisation pour films métalliques

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Cible de pulvérisation de praseodyme de haute pureté pour les films de cellules solaires et les applications d'énergie photovoltaïque

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Cible de pulvérisation au praseodyme

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Applications de l'énergie photovoltaïque Cible de pulvérisation de praseodyme

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Cible de pulvérisation de haute pureté

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Cible de pulvérisation cathodique au lanthane à haute constante diélectrique pour la fabrication de puces de mémoire à semi-conducteurs sans fuite

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Cible de pulvérisation cathodique pour la fabrication de puces de mémoire à semi-conducteurs

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Cible de pulvérisation cathodique à haute constante diélectrique

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Cible de pulvérisation d'yttrium pour la stabilité à haute température et les films de revêtement résistants à l'usure supérieurs

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Cible de pulvérisation d'yttrium à haute stabilité à température élevée

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Cible de pulvérisation d'yttrium résistant à l'usure supérieure

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Cible de pulvérisation en alliage de néodyme d'aluminium pour un revêtement d'électrodes d'affichage et d'écran tactile de haute qualité

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Cible de pulvérisation du revêtement par électrode à écran tactile

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Cible de pulvérisation en alliage de néodyme

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Cible de pulvérisation à écran de haute qualité

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