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Obiettivo di sputtering di samario per film metallici ad alta riflettività e rivestimenti conduttivi trasparenti

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Target di sputtering al lantanio ad alta costante dielettrica per la fabbricazione di chip di memoria a semiconduttore senza perdite

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Obiettivo di sputtering di praseodimio ad alta purezza per pellicole di celle solari e applicazioni di energia fotovoltaica

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Target di sputtering allo ittrio per stabilità alle alte temperature e film di rivestimento superiori resistenti all'usura

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Target di sputtering in lega di alluminio e neodimio per rivestimenti di elettrodi di alta qualità per display e touchscreen

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