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high reflectivity sputtering target (5)  fabricante en línea

Objetivo de pulverización de samario para películas metálicas de alta reflectividad y recubrimientos conductores transparentes

Detalles de empaquetado: Embalaje personalizado

Tiempo de entrega: 45-60 días laborables

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Objetivo de pulverización catódica de lantano de alta constante dieléctrica para la fabricación de chips de memoria de semiconductores sin fugas

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Tiempo de entrega: 45-60 días laborables

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Objetivo de pulverización de praseodimio de alta pureza para películas de células solares y aplicaciones de energía fotovoltaica

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Tiempo de entrega: 45-60 días laborables

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Objetivo de pulverización de itrio para la estabilidad a altas temperaturas y películas de recubrimiento resistentes al desgaste superiores

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Objetivo de pulverización de aleación de neodimio de aluminio para revestimiento de electrodos de pantalla táctil y pantalla de alta calidad

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