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Cible de pulvérisation en alliage de néodyme d'aluminium pour un revêtement d'électrodes d'affichage et d'écran tactile de haute qualité

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Cible de pulvérisation d'yttrium pour la stabilité à haute température et les films de revêtement résistants à l'usure supérieurs

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Cible de pulvérisation d' ytterbium comme couche de cathode OLED avancée pour des écrans plus lumineux et plus durables

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Cible de pulvérisation de terbium pour le stockage magnéto-optique à haute performance et les films de modulateur optique

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Cible de pulvérisation de scandium haute performance pour les filtres RF 5G et les appareils électro-optiques avancés

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Cible de pulvérisation de samarium pour films métalliques à haute réflectivité et revêtements conducteurs transparents

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Cible de pulvérisation de praseodyme de haute pureté pour les films de cellules solaires et les applications d'énergie photovoltaïque

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Cible de pulvérisation cathodique au lanthane à haute constante diélectrique pour la fabrication de puces de mémoire à semi-conducteurs sans fuite

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Cible de pulvérisation cathodique en alliage HoCu pour applications aérospatiales à températures extrêmes et réfrigération magnétique

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Cible de pulvérisation cathodique en alliage de terres rares sur mesure pour votre procédé de couches minces

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Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de scandium pour les filtres acoustiques 5G avec des performances piézoélectriques améliorées

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