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Alvo de pulverização de liga de alumínio e neodímio para revestimento de eletrodos de ecrã táctil de alta qualidade

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Alvo de pulverização catódica de ítrio para estabilidade em alta temperatura e filmes de revestimento superiores resistentes ao desgaste

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Alvo de Sputtering de Itérbio como camada de catodo OLED avançada para exibições mais brilhantes e duradouras

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Alvo de pulverização de térbio para armazenamento magneto-óptico de alto desempenho e filmes de modulação óptica

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Alvo de pulverização catódica de escândio de alto desempenho para filtros de RF 5G e dispositivos eletro-ópticos avançados

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Alvo de pulverização de samário para filmes metálicos de alta refletividade e revestimentos condutores transparentes

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Alvo de pulverização catódica de praseodímio de alta pureza para filmes de células solares e aplicações de energia fotovoltaica

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Meta de pulverização de liga HoCu para aplicações aeroespaciais e de refrigeração magnética a temperaturas extremas

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Alvo de pulverização catódica de liga de terras raras personalizada com composição sob medida para o seu processo de filme fino

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Alvo de pulverização de liga de alumínio e escândio para filtros acústicos 5G com desempenho piezoelétrico melhorado

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