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Aluminium-Neodym-Legierung Sputtertarget für hochwertige Display- und Touchscreen-Elektrodenbeschichtung

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Yttrium-Sputterziel für Hochtemperaturstabilität und überlegene verschleißbeständige Beschichtungsfolien

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Ytterbium-Sputtering-Ziel als fortschrittliche OLED-Kathoden-Schicht für hellere, länger anhaltende Displays

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Terbiumspritzerziel für Hochleistungsmagnetooptische Speicher und optische Modulatorfolien

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Hochleistungs-Scandium-Sputtertarget für 5G-HF-Filter & fortschrittliche elektrooptische Geräte

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Samarium-Sputterziel für hochreflektiven Metallfolien und transparente leitfähige Beschichtungen

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Hochreines Praseodymium-Sputterziel für Solarzellfilme und Photovoltaikanwendungen

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Hoch-Dielektrikum-Lanthan-Sputtertarget für die leckagefreie Herstellung von Halbleiterspeicherchips

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HoCu-Legierung-Sputtertarget für Hochtemperatur-Luft- und Raumfahrt- sowie Magnetkühlungsanwendungen

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Kundenspezifisches Seltenerdlegierungs-Sputtertarget mit maßgeschneiderter Zusammensetzung für Ihren Dünnschichtprozess

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Aluminium-Scandium-Legierung Sputtering Ziel für 5G-Akustikfilter mit verbesserter piezoelektrischer Leistung

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