গ্যালিয়াম অক্সাইড (Ga2O3): এলইডি ফসফোরের জন্য সক্রিয়কারী,লেজার/স্কিন্টিলেশন স্ফটিকগুলির জন্য কাঁচামাল
গ্যালিয়াম অক্সাইড একটি অজৈব যৌগ যার রাসায়নিক সূত্র Ga2O3। সাদা ত্রিভুজাকার স্ফটিক কণা। পানিতে দ্রবণীয় নয়। গরম অ্যাসিড বা ক্ষারীয় দ্রবণে সামান্য দ্রবণীয়।গলনাঙ্ক ১৯০০°সি (৬০০°সি এ β-টাইপে রূপান্তরিত হয়). ক্ষারীয় ধাতব হাইড্রক্সাইড এবং পাতলা অজৈব অ্যাসিডে সহজেই দ্রবণীয়। এর α এবং β পলিমরফ রয়েছে। α- প্রকার হ'ল সাদা রম্বোহেড্রাল হেক্সাহেড্রন।
পণ্য সিরিজ
|
পণ্য |
পণ্যের কোড |
নিরাপত্তা তথ্য |
প্রযুক্তিগত তথ্য |
| গ্যালিয়াম অক্সাইড ৯৯.৯৯% | ET-Ga-01 | গ্যালিয়াম অক্সাইড.pdf | গ্যালিয়াম অক্সাইড Ga2O3 99.99.pdf |
| গ্যালিয়াম অক্সাইড 99.999% | ET-Ga-02 | গ্যালিয়াম অক্সাইড Ga2O3 99.999.pdf |
| সিগন্যাল ওয়ার্ড | N/A |
| বিপদের বিবৃতি | N/A |
| বিপজ্জনক কোড | N/A |
| সতর্কতা | N/A |
| ফ্ল্যাশ পয়েন্ট | N/A |
| ঝুঁকি কোড | প্রযোজ্য নয় |
| নিরাপত্তা বিবৃতি | N/A |
| RTECS নম্বর | N/A |
| পরিবহন সংক্রান্ত তথ্য | ননহ |
| ডব্লিউজিকে জার্মানি | 2 |
প্যাকেজিং স্পেসিফিকেশন
গ্যালিয়াম অক্সাইড ধাতব গ্যালিয়াম এর অক্সাইড এবং এটি একটি অর্ধপরিবাহী যৌগ। এখন পর্যন্ত পাঁচটি স্ফটিক ফর্ম নিশ্চিত করা হয়েছেঃ α, β, γ, δ, ε, যার মধ্যে β কাঠামো সবচেয়ে স্থিতিশীল।গ্যালিয়াম অক্সাইডের স্ফটিক বৃদ্ধি এবং শারীরিক বৈশিষ্ট্যগুলির বেশিরভাগ গবেষণা β কাঠামোর উপর দৃষ্টি নিবদ্ধ করেগবেষকরা ধাতু-অর্ধপরিবাহী ক্ষেত্র-প্রভাব ট্রানজিস্টর তৈরি করার চেষ্টা করেছেন। যদিও তারা প্যাসিভেশন প্রতিরক্ষামূলক ফিল্ম ছাড়া সহজ কাঠামো ছিল,নমুনাগুলি ইতিমধ্যে উচ্চ ভাঙ্গন ভোল্টেজ এবং কম ফুটো প্রবাহের বৈশিষ্ট্য দেখিয়েছেসিলিকন কার্বাইড বা গ্যালিয়াম নাইট্রাইডের সাথে অনুরূপ উপাদান তৈরি করার সময়, এই নমুনা স্পেসিফিকেশনগুলি অর্জন করা সাধারণত কঠিন।
গ্যালিয়াম অক্সাইড প্রস্তুতের প্রধান পদ্ধতিঃ β-Ga2O3 স্ফটিক বৃদ্ধির সময় বিভিন্ন কাঁচামালের অবস্থার অনুযায়ী, স্ফটিক বৃদ্ধির পদ্ধতিগুলিকে বিভক্ত করা যেতে পারেঃ সমাধান পদ্ধতি, গলিত পদ্ধতি,বাষ্প ধাপ পদ্ধতি, সলিড ফেজ পদ্ধতি, ইত্যাদি গলানোর পদ্ধতিটি প্রাথমিকভাবে অধ্যয়ন করা এবং সর্বাধিক ব্যবহৃত ক্রিস্টাল কেমিক্যাল বই বৃদ্ধির পদ্ধতি এবং বর্তমানে β-Ga2O3 বাল্ক একক স্ফটিকের বৃদ্ধির জন্য সাধারণ পদ্ধতি।.গলিত পদ্ধতি উচ্চ মানের, কম খরচে β-Ga2O3 বাল্ক একক স্ফটিক উত্পাদন করতে পারে, যার মধ্যে সর্বাধিক ব্যবহৃত বৃদ্ধি পদ্ধতি প্রধানত দুটিঃCzochralski পদ্ধতি এবং প্রান্ত-সংজ্ঞায়িত ফিল্ম-ফিড বৃদ্ধি (EFG) পদ্ধতি.
আপনার জিজ্ঞাসা সরাসরি আমাদের কাছে পাঠান
