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CAS 12024-21-4 Óxido de Gálio Ga2O3 Ativador de Fósforo Pó Branco

CAS 12024-21-4 Óxido de Gálio Ga2O3 Ativador de Fósforo Pó Branco

CAS 12024-21-4 Óxido de Gálio

Óxido de Gálio Ga2O3

Ga2O3 Ativador de Fósforo Pó Branco

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Detalhes do produto
CAS #:
12024-21-4
Fórmula molecular:
Ga2O3
CE No.:
234-691-7
Pureza:
99.99-99.999%
Peso molecular:
187.44
Aparência:
Pó branco
Ponto de fusão:
1.900 ° C (3.452 ° F)
Ponto de ebulição:
N / D
Densidade:
5,88 g/cm3
Massa exata:
187.835 g/mol
Massa monoisotópica:
185.835906 DA
Destacar:

CAS 12024-21-4 Óxido de Gálio

,

Óxido de Gálio Ga2O3

,

Ga2O3 Ativador de Fósforo Pó Branco

Termos do pagamento & do transporte
Quantidade de ordem mínima
500G
Detalhes da embalagem
0,5-1 quilograma por garrafa, 50 quilogramas por tambor, 500 quilogramas por palete
Tempo de entrega
45-60 dias úteis
Termos de pagamento
T/T.
Habilidade da fonte
5 000 kg
Descrição do produto

Óxido de Gálio (Ga₂O₃): Ativador para Fósforos LED, Matéria-prima para Cristais Laser/Cintilação

O óxido de gálio é um composto inorgânico com a fórmula química Ga2O3. Partículas cristalinas triangulares brancas. Insolúvel em água. Ligeiramente solúvel em ácidos quentes ou soluções alcalinas. Ponto de fusão 1900°C (transforma-se em tipo β a 600°C). Facilmente solúvel em hidróxidos de metais alcalinos e ácidos inorgânicos diluídos. Possui polimorfos α e β. O tipo α é um hexaedro romboédrico branco.

 

Aplicações

  1. Usado como ativador em fósforos LED
  2. Usado como matéria-prima para cristais de cintilação especiais ou cristais laser.

 

Série de Produtos

Produto

Código do Produto

Dados de Segurança

Dados Técnicos

Óxido de Gálio 99,99% ET-Ga-01 Óxido de gálio.pdf Óxido de Gálio Ga2O3 99,99.pdf
Óxido de Gálio 99,999% ET-Ga-02   Óxido de Gálio Ga2O3 99,999.pdf

 

Informações de Saúde e Segurança

Palavra de Sinalização N/A
Declarações de Perigo N/A
Códigos de Perigo N/A
Declarações de Precaução N/A
Ponto de Fulgor N/A
Códigos de Risco Não aplicável
Declarações de Segurança N/A
Número RTECS N/A
Informações de Transporte NONH
WGK Alemanha 2

 

 

Especificações de Embalagem

  • Embalagem padrão: 50 kg/tambor, 500 kg/palete, sacos de tonelada
  • Embalagem de amostra: 500 g/saco, 1 kg/frasco

 

Sobre o Óxido de Gálio

O óxido de gálio é o óxido do gálio metálico e também um composto semicondutor. Até agora, foram confirmadas cinco formas cristalinas: α, β, γ, δ, ε, das quais a estrutura β é a mais estável. A maioria das pesquisas sobre o crescimento de cristais e as propriedades físicas do óxido de gálio se concentra na estrutura β. Os pesquisadores tentaram fabricar transistores de efeito de campo metal-semicondutor. Embora fossem estruturas simples sem filmes protetores de passivação, as amostras já apresentavam características de alta tensão de ruptura e baixa corrente de fuga. Ao fazer componentes semelhantes com carbeto de silício ou nitreto de gálio, geralmente é difícil atingir essas especificações de amostra.

Métodos de preparação de óxido de gálio convencionais: De acordo com os diferentes estados da matéria-prima durante o crescimento do cristal β-Ga2O3, os métodos de crescimento do cristal podem ser divididos em: método de solução, método de fusão, método de fase vapor, método de fase sólida, etc. O método de fusão é o método de crescimento de cristal Chemicalbook mais antigo estudado e mais amplamente utilizado, e é atualmente o método comum para o crescimento de monocristais β-Ga2O3 a granel. O método de fusão pode cultivar monocristais β-Ga2O3 a granel de alta qualidade e baixo custo, entre os quais os métodos de crescimento mais comumente usados ​​são principalmente dois: método Czochralski e método de crescimento alimentado por filme definido por borda (EFG).

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