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high purity sputtering target (18)  fabricant en ligne

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Cible de pulvérisation au praseodyme

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Applications de l'énergie photovoltaïque Cible de pulvérisation de praseodyme

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Cible de pulvérisation de haute pureté

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Cible de pulvérisation cathodique pour la fabrication de puces de mémoire à semi-conducteurs

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Cible de pulvérisation cathodique à haute constante diélectrique

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Cible de pulvérisation pour revêtements conducteurs transparents

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Cible de pulvérisation d'yttrium à haute stabilité à température élevée

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Objectif de pulvérisation de scandium pour les appareils électro-optiques

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Cible de pulvérisation de stockage magnéto-optique à haute performance

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Les écrans à plus longue durée d'utilisation affichent une cible de pulvérisation

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Cible de pulvérisation cathodique pour réfrigération magnétique

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Cible de pulvérisation cathodique pour applications aérospatiales à températures extrêmes

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Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de scandium

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Pureté 99,9 Y métal d'yttrium pour les cibles de pulvérisation LCD Matériau additif d'alliage spécial

CAS #: 7440-65-5

Formule moléculaire: Y

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Alliage maître aluminium-néodyme à haute résistance

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Alliage maître aluminium-néodyme

Détails d'emballage: Emballage en fût de fer scellé de 50 kg

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CAS #: 7440-03-1

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