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high purity sputtering target (18)  fabricante online

Alvo de pulverização catódica de praseodímio de alta pureza para filmes de células solares e aplicações de energia fotovoltaica

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Alvo de pulverização catódica de praseodímio

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Alvo de pulverização catódica de praseodímio para aplicações de energia fotovoltaica

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Alvo de pulverização catódica de alta pureza

Detalhes da embalagem: Embalagem personalizada

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Alvo de pulverização catódica de lantânio de alta constante dielétrica para fabricação de chips de memória semicondutores sem vazamento

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Alvo de pulverização catódica para fabricação de chips de memória semicondutores

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Alvo de pulverização catódica de alta constante dielétrica

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Alvo de pulverização de samário para filmes metálicos de alta refletividade e revestimentos condutores transparentes

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Alvo de pulverização para revestimentos condutores transparentes

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Alvo de pulverização de alta refletividade

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Alvo de pulverização para filmes metálicos

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Alvo de pulverização catódica de ítrio para estabilidade em alta temperatura e filmes de revestimento superiores resistentes ao desgaste

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Alvo de pulverização catódica de ítrio com estabilidade em alta temperatura

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Alvo de pulverização catódica de ítrio superior resistente ao desgaste

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Alvo de pulverização catódica de escândio de alto desempenho para filtros de RF 5G e dispositivos eletro-ópticos avançados

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Alvo de pulverização catódica de escândio para dispositivos eletro-ópticos

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Alvo de pulverização catódica de escândio para filtros de RF 5G

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Alvo de pulverização de térbio para armazenamento magneto-óptico de alto desempenho e filmes de modulação óptica

Destacar:

Alvo de pulverização de armazenamento magneto-óptico de alto desempenho

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Meta de pulverização de filmes de modulador óptico

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Alvo de Sputtering de Itérbio como camada de catodo OLED avançada para exibições mais brilhantes e duradouras

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Displays mais duradouros mostram alvo de pulverização

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Alvo de pulverização de itérbio

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Meta de pulverização de liga HoCu para aplicações aeroespaciais e de refrigeração magnética a temperaturas extremas

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Alvo de pulverização de refrigeração magnética

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Alvo de pulverização de liga HoCu

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Alvo de pulverização aeroespacial a temperaturas extremas

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Alvo de pulverização de liga de alumínio e neodímio para revestimento de eletrodos de ecrã táctil de alta qualidade

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Alvo de pulverização do revestimento de elétrodos do ecrã táctil

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Al Neodímio liga alvo de pulverização

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Alvo de pulverização de alta qualidade

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Alvo de pulverização de liga de alumínio e escândio para filtros acústicos 5G com desempenho piezoelétrico melhorado

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5G Filtros Acústicos Sputtering alvo

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Performance piezoelétrica melhorada

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Alvo de pulverização de liga de escândio de alumínio

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Alvo de pulverização catódica de liga de terras raras personalizada com composição sob medida para o seu processo de filme fino

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Alvo de pulverização catódica de liga para filme fino

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Alvo de pulverização catódica de liga

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Alvo de pulverização catódica de liga personalizada

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Bom preço Tântalo Ta de Metal Raro 99,99% para Fabricação de Capacitores, Alvos de Pulverização online vídeo

Tântalo Ta de Metal Raro 99,99% para Fabricação de Capacitores, Alvos de Pulverização

CAS #: 7440-25-7

Fórmula molecular: Ta

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A liga principal de alumínio-neodímio melhora a resistência ao calor e as propriedades magnéticas

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Ligação principal de alumínio-neodímio de alta resistência

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Ligação principal de alumínio e neodímio

Detalhes da embalagem: Embalagem em tambor de ferro selado de 50 kg

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Bom preço Produção de Nióbio Nb Nióbio Mineral Aeroespacial Supercondutor e Liga de Alta Temperatura online vídeo

Produção de Nióbio Nb Nióbio Mineral Aeroespacial Supercondutor e Liga de Alta Temperatura

CAS #: 7440-03-1

Fórmula molecular: Nb

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Prata 99,99% Elemento Lutecio Lu Raros metais da terra Activador para fósforos

CAS #: 7439-94-3

Fórmula Molecular: Lu

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