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high purity sputtering target (18)  produttore online

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Obiettivo di sputtering di praseodimio ad alta purezza per pellicole di celle solari e applicazioni di energia fotovoltaica

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Applicazioni dell'energia fotovoltaica Obiettivo di sputtering di praseodimio

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Obiettivo di sputtering di samario per film metallici ad alta riflettività e rivestimenti conduttivi trasparenti

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Target di sputtering allo ittrio per stabilità alle alte temperature e film di rivestimento superiori resistenti all'usura

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Obiettivo di sputtering di scandio ad alte prestazioni per filtri RF 5G e dispositivi elettro-ottici avanzati

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Obiettivo di sputtering di terbio per film di memorizzazione magneto-ottica ad alte prestazioni e modulatori ottici

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Obiettivo di sputtering per filtri acustici 5G con prestazioni piezoelettriche migliorate

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CAS #: 7440-65-5

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CAS #: 7440-25-7

Formula molecolare: Ta

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L'alluminio-neodimio Master alloy migliora la resistenza al tempo e le proprietà magnetiche

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CAS #: 7440-03-1

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CAS #: 7439-94-3

Formula molecolare: Lu

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