Il target di sputtering al Lantanio è un materiale funzionale ad alta purezza ampiamente utilizzato nei semiconduttori, nei rivestimenti ottici e nei campi di ricerca. Il prodotto è realizzato in metallo lantanio ad alta purezza tramite lavorazione di precisione, caratterizzato da eccellente uniformità del film, densità e stabilità di sputtering. È adatto a vari processi di rivestimento, come lo sputtering magnetron e lo sputtering a fascio ionico.
Aree di applicazione
1. Chip di memoria a semiconduttore: Utilizzato per la preparazione di film di ossido di lantanio ad alta costante dielettrica per risolvere i problemi di dispersione della memoria e migliorare le prestazioni del dispositivo. I target di lantanio ad alta purezza producono film di ossido di lantanio con un'elevata costante dielettrica (24-27) e una grande barriera di interfaccia con i substrati di Si, risolvendo efficacemente i problemi di dispersione nei chip di memoria.
2. Rivestimenti ottici: Utilizzato per componenti ottici a infrarossi, rivestimenti antiriflesso e rivestimenti speciali per vetri.
3. Esperimenti di ricerca: Utilizzato per la ricerca di nuovi materiali, studi di fisica dei film sottili e ingegneria delle superfici.
4. Componenti elettronici: Utilizzato per la preparazione di resistori a film sottile, condensatori e sensori.
Proprietà teoriche
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Attributo |
Valore/Descrizione |
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Purezza |
3N-4N (99.9-99.99%) |
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Forma |
Target rettangolare, target circolare, su misura |
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Dimensione |
2 pollici, 8 pollici, 12 pollici, su misura |
Informazioni sulla salute e la sicurezza
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Voce |
Descrizione |
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Protezione da contatto |
Indossare guanti e occhiali protettivi durante l'operazione per evitare il contatto con la pelle o gli occhi. |
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Rischio di inalazione |
La polvere può irritare le vie respiratorie. Si consiglia di maneggiare in un ambiente ventilato o di indossare una maschera antipolvere. |
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Condizioni di conservazione |
Conservare in un contenitore asciutto e sigillato protetto con gas inerte (ad esempio, argon) per evitare l'ossidazione e l'umidità. |
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Risposta alle emergenze |
In caso di contatto con gli occhi o la pelle, sciacquare immediatamente con acqua e consultare un medico. Se la polvere viene inalata, spostarsi in un'area ben ventilata. |
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Impatto ambientale |
I target scartati devono essere gestiti in conformità alle normative sul riciclaggio dei rifiuti metallici per evitare uno smaltimento improprio. |
Specifiche di imballaggio
Imballaggio personalizzato: È possibile fornire soluzioni di imballaggio speciali in base alle esigenze del cliente.
Informazioni sul target di sputtering al Lantanio
Il target di sputtering al Lantanio è una materia prima chiave per la preparazione di film sottili di fascia alta, in particolare nel campo dei chip di memoria a semiconduttore. I suoi film di ossido di lantanio preparati, con un'elevata costante dielettrica ed eccellenti proprietà di interfaccia, sono diventati materiali importanti per risolvere i problemi di dispersione nei dispositivi microelettronici. Offriamo una gamma completa di prodotti target ad alta purezza e multi-dimensione e supportiamo l'elaborazione personalizzata per soddisfare le diverse esigenze della ricerca e della produzione industriale.
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