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Obiettivo di sputtering di praseodimio ad alta purezza per pellicole di celle solari e applicazioni di energia fotovoltaica

Obiettivo di sputtering di praseodimio ad alta purezza per pellicole di celle solari e applicazioni di energia fotovoltaica

Obiettivo per lo sputtering di praseodimio

Applicazioni dell'energia fotovoltaica Obiettivo di sputtering di praseodimio

Obiettivo di sputtering ad alta purezza

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Obiettivo per lo sputtering di praseodimio

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Applicazioni dell'energia fotovoltaica Obiettivo di sputtering di praseodimio

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Obiettivo di sputtering ad alta purezza

Termini di trasporto & di pagamento
Quantità di ordine minimo
500 g
Imballaggi particolari
Imballaggio personalizzato
Tempi di consegna
45-60 giorni feriali
Termini di pagamento
T/T
Capacità di alimentazione
5000 kg
Descrizione di prodotto

Il target di sputtering al praseodimio è un materiale funzionale ad alta purezza ampiamente utilizzato in celle solari, rivestimenti per semiconduttori, rivestimenti ottici e materiali magnetici. Il prodotto è realizzato in metallo praseodimio ad alta purezza tramite lavorazione di precisione, caratterizzato da eccellente uniformità del film, densità e stabilità di sputtering. È adatto a vari processi di rivestimento, come lo sputtering magnetron e lo sputtering a fascio ionico.

 

Aree di applicazione

1. Film per celle solari: Utilizzato per la preparazione di strati assorbenti la luce e interfacciali di celle solari ad alta efficienza per migliorare l'efficienza di conversione fotoelettrica.

2. Film per semiconduttori: Utilizzato per la preparazione di film funzionali in circuiti integrati, dispositivi di memoria e sensori.

3. Film ottici: Utilizzato per rivestimenti antiriflesso, componenti ottici a infrarossi e rivestimenti ottici speciali.

4. Film per materiali magnetici: Utilizzato per l'archiviazione magnetica, sensori magnetici e la preparazione di dispositivi spintronici.

5. Materiali ceramici: Utilizzato per superconduttori ad alta temperatura, ceramiche dielettriche e film ceramici funzionali.

 

Proprietà teoriche

Attributo

Valore/Descrizione

Purezza

3N-4N (99.9-99.99%)

Forma

Target rettangolare, target circolare, su misura

Dimensione

2 pollici, 8 pollici, 12 pollici, su misura

 

Informazioni sulla salute e la sicurezza

Voce

Descrizione

Protezione da contatto

Indossare guanti e occhiali protettivi durante l'operazione per evitare il contatto con la pelle o gli occhi.

Rischio di inalazione

La polvere può irritare le vie respiratorie. Si consiglia di maneggiare in un ambiente ventilato o di indossare una maschera antipolvere.

Condizioni di conservazione

Conservare in un contenitore asciutto e sigillato protetto con gas inerte (ad esempio, argon) per evitare l'ossidazione e l'umidità.

Risposta alle emergenze

In caso di contatto con gli occhi o la pelle, sciacquare immediatamente con acqua e consultare un medico. Se la polvere viene inalata, spostarsi in un'area ben ventilata.

Impatto ambientale

I target scartati devono essere gestiti in conformità alle normative sul riciclaggio dei rifiuti metallici per evitare uno smaltimento improprio.

 

Specifiche di imballaggio

Imballaggio personalizzato: È possibile fornire soluzioni di imballaggio speciali in base alle esigenze del cliente.

 

Informazioni sul target di sputtering al praseodimio

Il target di sputtering al praseodimio è una materia prima chiave per la preparazione di film sottili ad alte prestazioni, con un significativo valore applicativo nelle nuove energie, nei semiconduttori e nell'ottica avanzata. I film preparati da esso mostrano eccellenti proprietà ottiche, elettriche e magnetiche, soddisfacendo i severi requisiti per i materiali funzionali in varie industrie high-tech. Offriamo prodotti target ad alta purezza e multi-dimensione e supportiamo la lavorazione personalizzata per soddisfare le diverse esigenze della ricerca e della produzione industriale.

 

 

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