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Alvo de pulverização catódica de lantânio de alta constante dielétrica para fabricação de chips de memória semicondutores sem vazamento

Alvo de pulverização catódica de lantânio de alta constante dielétrica para fabricação de chips de memória semicondutores sem vazamento

Alvo de pulverização catódica para fabricação de chips de memória semicondutores

Alvo de pulverização catódica de alta constante dielétrica

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Alvo de pulverização catódica para fabricação de chips de memória semicondutores

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Alvo de pulverização catódica de alta constante dielétrica

Termos do pagamento & do transporte
Quantidade de ordem mínima
500g
Detalhes da embalagem
Embalagem personalizada
Tempo de entrega
45-60 dias úteis
Termos de pagamento
T/T
Habilidade da fonte
5.000kg
Descrição do produto

O alvo de pulverização de lantânio é um material funcional de alta pureza amplamente utilizado em semicondutores, revestimentos ópticos e campos de pesquisa.O produto é fabricado a partir de metal de lantanum de alta pureza através de processamento de precisãoÉ adequado para vários processos de revestimento, como pulverização por magnetrão e pulverização por feixe de íons.

 

Áreas de aplicação

1. Chips de memória semicondutores: Usados para preparar filmes de óxido de lantanum de alta constante dielétrica para resolver problemas de vazamento de memória e melhorar o desempenho do dispositivo.Os alvos de lantânio de alta pureza produzem filmes de óxido de lantânio com uma constante dielétrica elevada (24-27) e uma grande barreira de interface com substratos de Si, resolvendo efetivamente problemas de fugas nos chips de memória.

2. Revestimentos ópticos: utilizados para componentes ópticos infravermelhos, revestimentos antirreflexo e revestimentos especiais de vidro.

3.Experimentos de pesquisa: Usados para pesquisa de novos materiais, estudos de física de filme fino e engenharia de superfície.

4.Componentes eletrónicos: utilizados para a preparação de resistores de película fina, condensadores e sensores.

 

Propriedades teóricas

Atributo

Valor/Descrição

Purificação

3N-4N (99,9-99,99%)

Forma

Alvo retangular, alvo circular, feito sob medida

Tamanho

2 polegadas, 8 polegadas, 12 polegadas, feito sob medida

 

Informações sobre saúde e segurança

Ponto

Descrição

Proteção contra contatos

Usar luvas de protecção e óculos de proteção durante a operação para evitar o contacto com a pele ou os olhos.

Risco por inalação

O pó pode irritar as vias respiratórias. Recomenda-se manusear num ambiente ventilado ou usar uma máscara de poeira.

Condições de armazenagem

Armazenar num recipiente seco e selado protegido com gás inerte (por exemplo, argônio) para evitar a oxidação e a umidade.

Resposta de emergência

Em caso de contacto com os olhos ou com a pele, enxaguar imediatamente com água e procurar assistência médica.

Impacto ambiental

Os alvos descartados devem ser tratados de acordo com as normas de reciclagem de resíduos metálicos para evitar a eliminação inadequada.

 

Especificações de embalagem

Embalagem personalizada: podem ser fornecidas soluções de embalagem especiais de acordo com os requisitos do cliente.

 

Sobre o Lanthanum Sputtering Target.

O alvo de pulverização de lantano é uma matéria-prima chave para a preparação de filmes finos de ponta, especialmente no campo dos chips de memória de semicondutores.com alta constante dielétrica e excelentes propriedades de interfaceA nossa gama completa de produtos de alta pureza é constituída por:produtos-alvo de várias dimensões e apoiar o processamento sob medida para satisfazer as diversas necessidades da investigação e da produção industrial.

 

 

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