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Target di sputtering in lega di terre rare personalizzata con composizione su misura per il tuo processo di film sottile

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Target di sputtering allo ittrio per stabilità alle alte temperature e film di rivestimento superiori resistenti all'usura

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Obiettivo di sputtering per filtri acustici 5G con prestazioni piezoelettriche migliorate

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Obiettivo di sputtering di terbio per film di memorizzazione magneto-ottica ad alte prestazioni e modulatori ottici

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Obiettivo di sputtering di scandio ad alte prestazioni per filtri RF 5G e dispositivi elettro-ottici avanzati

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Obiettivo di sputtering di samario per film metallici ad alta riflettività e rivestimenti conduttivi trasparenti

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Obiettivo di sputtering di itterbio come strato catodico OLED avanzato per schermi più luminosi e duraturi

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Target di sputtering al lantanio ad alta costante dielettrica per la fabbricazione di chip di memoria a semiconduttore senza perdite

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Target di sputtering in lega HoCu per applicazioni aerospaziali ad altissima temperatura e refrigerazione magnetica

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CAS 12024-21-4 Ossido di Gallio Ga2O3 Attivatore Fosforico Polvere Bianca

CAS #: 12024-21-4

Formula molecolare: GA2O3

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Buon prezzo Polvere di ossido di indio giallo In2O3 1312-43-2 Materiali per rivestimenti ITO in linea video

Polvere di ossido di indio giallo In2O3 1312-43-2 Materiali per rivestimenti ITO

CAS #: 1312-43-2

Formula molecolare: In2o3

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Buon prezzo Purezza 99.999 Ossido di Tellurio TeO2 7446-07-3 Substrato per la Crescita di Monocristalli in linea video
Buon prezzo Ossido di Niobio Nb2O5 con purezza 99,99% per leghe superconduttrici e lenti ottiche in linea video

Ossido di Niobio Nb2O5 con purezza 99,99% per leghe superconduttrici e lenti ottiche

CAS #: 1313-96-8

Formula molecolare: NB2O5

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