هدف پاشش لانتان با دی‌الکتریک بالا برای ساخت تراشه حافظه نیمه‌رسانا بدون نشتی

هدف پاشش لانتانوم یک ماده عملکردی با خلوص بالا است که به طور گسترده در نیمه‌رساناها، پوشش‌های نوری و زمینه‌های تحقیقاتی استفاده می‌شود. این محصول از فلز لانتانوم با خلوص بالا از طریق پردازش دقیق ساخته شده است و دارای یکنواختی فیلم، چگالی و پایداری پاشش عالی است. برای فرآیندهای پوشش‌دهی مختلف، مانند پاشش مگنترون و پاشش پرتو یونی، مناسب است.

حوزه‌های کاربرد

1. تراشه‌های حافظه نیمه‌رسانا: برای تهیه فیلم‌های اکسید لانتانوم با ثابت دی‌الکتریک بالا برای حل مشکلات نشت حافظه و بهبود عملکرد دستگاه استفاده می‌شود. اهداف لانتانوم با خلوص بالا، فیلم‌های اکسید لانتانوم با ثابت دی‌الکتریک بالا (24-27) و یک مانع رابط بزرگ با زیرلایه‌های Si تولید می‌کنند و به طور موثر مشکلات نشت در تراشه‌های حافظه را حل می‌کنند.

2. پوشش‌های نوری: برای اجزای نوری مادون قرمز، پوشش‌های ضد انعکاس و پوشش‌های شیشه ای خاص استفاده می‌شود.

3. آزمایش‌های تحقیقاتی: برای تحقیقات مواد جدید، مطالعات فیزیک لایه نازک و مهندسی سطح استفاده می‌شود.

4. قطعات الکترونیکی: برای تهیه مقاومت‌های لایه نازک، خازن‌ها و حسگرها استفاده می‌شود.

ویژگی‌های نظری

اطلاعات بهداشت و ایمنی

مشخصات بسته‌بندی

بسته‌بندی سفارشی: راه‌حل‌های بسته‌بندی ویژه را می‌توان با توجه به نیاز مشتری ارائه داد.

درباره هدف پاشش لانتانوم

هدف پاشش لانتانوم یک ماده اولیه کلیدی برای تهیه فیلم نازک با کیفیت بالا، به ویژه در زمینه تراشه حافظه نیمه‌رسانا است. فیلم‌های اکسید لانتانوم آماده شده آن، با ثابت دی‌الکتریک بالا و خواص رابط عالی، به مواد مهمی برای حل مشکلات نشت در دستگاه‌های میکروالکترونیکی تبدیل شده‌اند. ما طیف کاملی از محصولات هدف با خلوص بالا و چند اندازه را ارائه می‌دهیم و از پردازش سفارشی برای پاسخگویی به نیازهای متنوع تحقیق و تولید صنعتی پشتیبانی می‌کنیم.